電子所賴朝松師生獲頒國際電子元件與材料研討會2006’IEDMS傑出論文獎

賴朝松教授得獎照
本系賴朝松教授與研究生楊家銘、呂增富及王泰權 ,於 IEDMS 2006大會提出論文“The Multi-Channel Measurements for pH-Sensitivity and Drift Coefficient of Thin Hafnium Oxide with CF4 Plasma Treatment”,榮獲傑出論文獎。

  本研究是針對化學感測元件,突破國際製程限制,利用以 HfO2 為感測膜,直接疊在 Silicon 基板的結構,經過 CF4 Plasma 處理,調變不同 CF4 Plasma 處理時間,進行感測度 ( sensitivity ) 及時漂 ( drift ) 現象探討。為進一步探討時漂現象,自行研發自動化多通道的量測程式,同時對量測系統進行整合,達成自動化及長時間監控量測之多重功能。

  現階段國際上有關離子感測薄膜結構,皆屬於兩層堆疊,本論文首度直接以 HfO2 感測膜沉積在 Silicon 基板上,並且加上電漿處理以改善特性。實驗結果證實,沒有經過 CF4 Plasma 處理,感測度及穩定度較差,其感測度僅有 46.27 mV/pH,再經過五分鐘 CF4 Plasma 處理後,其感測度可提升至 49.52 mV/pH之理想值,此特性已經達到目前市面上 pH meter 產品規格之要求。展望未來,本論文之研究成果將可應用於血液離子、血糖等感測技術,為人類健康把脈跟出另一里程。